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KT-Z1650CVD 小型桌面式高溫真空蒸鍍儀
- 公司名稱(chēng) 鄭州市金水區(qū)智研實(shí)驗(yàn)室設(shè)備經(jīng)營(yíng)部（個(gè)體工商戶）
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) KT-Z1650CVD
- 產(chǎn)地 鄭州市西三環(huán)大學(xué)科技園東區(qū)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/13 9:39:33
- 訪問(wèn)次數(shù) 38
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
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小型桌面式高溫真空蒸鍍儀 KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜
真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過(guò)程：
（1）加熱蒸發(fā)過(guò)程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^(guò)程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過(guò)程。
（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過(guò)程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長(zhǎng)，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過(guò)程。
小型濺射儀
小型桌面式高溫真空蒸鍍儀 技術(shù)資料
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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