Wintech CCP-200 微蕓電容耦合等離子體刻蝕機

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司
品牌 其他品牌
型號 Wintech CCP-200
產(chǎn)地 上海市浦東新區(qū)王橋路689號1幢
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2024/9/29 15:37:55
訪問次數(shù) 91

產(chǎn)品標簽

干法刻蝕電容耦合半導(dǎo)體等離子體刻蝕機

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公司介紹 主營產(chǎn)品

公司創(chuàng)始人與核心團隊成員均源自國內(nèi)頭部半導(dǎo)體設(shè)備制造供應(yīng)商刻蝕部門研發(fā)團隊。自2008年起，他們投身于16nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)工作，并成功將其推向市場。隨后，作為關(guān)鍵成員，再度參與了12寸14nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)并實現(xiàn)量產(chǎn)。

在市場需求的推動下，公司組建了一支由半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗的技術(shù)人物及設(shè)計精英構(gòu)成的骨干團隊，利用在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的豐富經(jīng)驗和深厚底蘊，首先聚焦8英寸ICP、CCP、TSV設(shè)備，致力于在SiC、IGBT、介質(zhì)材料等關(guān)鍵領(lǐng)域內(nèi)，形成全系列更可靠、更貼合用戶需求的高性能產(chǎn)品。

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ICP干法刻蝕機，CCP干法刻蝕機，400平臺刻蝕系統(tǒng)，600平臺刻蝕系統(tǒng)，Manual Load系統(tǒng)

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上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司生產(chǎn)的電感耦合等離子體干法刻蝕機（ICP）是一款針對工藝節(jié)點與生產(chǎn)線各種關(guān)鍵應(yīng)用的大規(guī)模量產(chǎn)型設(shè)備，其性能亦可在各大高校及科研機構(gòu)展示其科研屬性。

設(shè)備8英寸向下兼容，適用于各種刻蝕需求，具備優(yōu)異的刻蝕均勻性和快速刻蝕速率，確保了高效、精確的刻蝕工藝結(jié)果。同時，高選擇比和高各向異性使刻蝕過程更為精準，減少損傷。專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定、重復(fù)性、均勻性佳。此外，高斷面輪廓可控性保證了刻蝕表面的平整光滑。該系統(tǒng)可以根據(jù)客戶要求選擇氣體種類進行配置。