品質(zhì)可靠

二氧化硅精拋光液

磨削力強  高亮度  分散性好  通用范圍廣  顆粒均勻  懸浮性強

       本公司開發(fā)和經(jīng)營的二氧化硅精拋光液為優(yōu)選二氧化硅微粉磨料,優(yōu)良的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴格的分級工藝保證了實際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒,其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求;所有這些研磨拋光材料,粒度、品種齊全,以滿足用戶各種要求。

      二氧化硅拋光液是一種以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。它廣泛應(yīng)用于多種材料納米級的高平坦化拋光，包括硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等。

產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)品名稱：二氧化硅精拋光液  

型號：SI001-PR

容量：500ml/瓶

粒度：0.02，0.04，0.05um

PH值：9.5

適用于樣品最后的精拋光

產(chǎn)品用途

        適用于PCB、線材端子、鋼、鐵、銅、鋁、鋅、鈦、不銹鋼、硬質(zhì)合金、有色合金、寶石、陶瓷、巖相、石英、晶體及光學(xué)玻璃的最終拋光，去除細小劃痕達到鏡面效果，真實的顯示材料組織。

產(chǎn)品特點

磨削力強  高亮度  分散性好  通用范圍廣  顆粒均勻  懸浮性強  

使用方法

沒有繁瑣的步驟，簡單易操作

1. 使用前拋光織物需用清水濕透，避免磨擦熱。

2. 啟動拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出。

3. 噴撒拋光液時，應(yīng)以拋光盤中心為圓心，沿半徑方向噴出3-5s即可。

4. 新織物噴撒時間相應(yīng)延長，以使織物的磨削能力更好。

5.拋光過程中不斷加入拋光液和適量的清水，保持拋光盤濕潤狀態(tài)。一般平均每分鐘消耗 5ml左右。

6.拋光后產(chǎn)品及時清洗或者放入清水中浸泡。

推薦配套使用：本公司金相拋光潤滑冷卻液，樣品的拋光效果則更好。