本裝置是一款在真空環(huán)境下對產(chǎn)品外部進行非導(dǎo)電體涂層的專業(yè)Coating設(shè)備。其核心特點包括：

真空環(huán)境操作：
設(shè)備在真空狀態(tài)下運行，確保涂層過程不受外界雜質(zhì)干擾，保證涂層質(zhì)量。
自傳與公轉(zhuǎn)結(jié)合：
產(chǎn)品在真空室內(nèi)不僅進行自轉(zhuǎn)，還同時進行公轉(zhuǎn)運動，這種復(fù)合運動方式有助于實現(xiàn)均勻且致密的涂層效果。
精確控制膜厚度：
設(shè)備具備精確的控制機制，能夠確保涂層保持一定的厚度，滿足不同的生產(chǎn)需求。
綜上所述，本裝置作為一款先進的真空Coating設(shè)備，通過其自轉(zhuǎn)與公轉(zhuǎn)結(jié)合的運動方式，以及精確的膜厚度控制能力，為產(chǎn)品外部非導(dǎo)電體涂層提供了高效、高質(zhì)量的解決方案