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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設(shè)備>化學(xué)機械拋光機(CMP)>GNP POLI-PCB系列 CMP

GNP POLI-PCB系列 CMP

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā),操作簡單,成本低。

2. GNP POLI-1300PCB型CMP規(guī)格:

機頭,工作臺:30 ~ 120rpm,旋轉(zhuǎn)運動,機頭擺動范圍(20°)

尺寸:2000W 2600D 2500H mm

壓板尺寸:Φ1300 mm,陽氧化鋁壓板冷卻結(jié)構(gòu)(不含冷水機)

封頭尺寸:Φ930毫米,陽氧化鋁

壓制方法:可變空氣壓力電子控制器25x25”或Φ900毫米的

PCB尺寸工藝:自動順序,干/濕搖臂刷護發(fā)素PLC程序和觸摸屏

應(yīng)用程序

工件:大直徑762mm(30英寸),封裝基板     

 

3. GNP POLI-1300-PCB型CMP規(guī)格:

機頭,工作臺:30 ~ 120rpm,旋轉(zhuǎn)運動,機頭擺動范圍(20°)

尺寸:1650W 2100D 2500H mm

壓板尺寸:1016毫米(40英寸),陽氧化鋁壓板冷卻結(jié)構(gòu)(不含冷水機)

封頭尺寸:760毫米,陽氧化鋁              

壓制方法:可變空氣壓力電子控制器20x20”或730毫米的

PCB尺寸工藝:自動順序,干/濕搖臂鉆石盤調(diào)理劑或刷調(diào)理劑PLC程序和觸摸屏

應(yīng)用程序

工件:大直徑1000mm,封裝基板







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