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LFT1400C 800D802Z 碳納米膜制備設備

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 合肥康帕因設備技術有限公司是應材料界老客戶呼吁而成立的專業(yè)致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設備的研發(fā)、生產型企業(yè)。公司擁有過硬的技術團隊,可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領域為您排憂解難。
CPI 技術力量來源于材料類工業(yè)生產設備要求,以及與國外同行業(yè)間的技術合作,產品設計*,注重細節(jié),質量可靠,售后無憂。CPI設備廣泛應用于新能源材料,金屬材料,磁性材料,半導體材料,陶瓷材料,電化學,薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳納米管,碳納米線,光學材料,齒科等研究領域。
CPI將工業(yè)生產設備技術要求應用于實驗設備,設備性能更加穩(wěn)定可靠,工藝重復性強。
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CPI企業(yè)文化:厚德載物,自強不息。以人為本,敬職敬業(yè)。
CPI經營理念:誠信務實,創(chuàng)新致遠。品質*,服務至上。




熱處理設備,高溫爐、CVD/PECVD、真空系統(tǒng)、晶體、耗材等

產地類別 國產 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子,電氣

一、結構簡介


碳納米膜制備設備如圖所示,由氣體質量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng),紅外烘干系統(tǒng)等組成。生長爐的最高溫度1400℃,并可在0-1400℃之間連續(xù)可調,垂直式分布熱場,三點控溫(三段長度平均分配),設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結構并帶有風冷系統(tǒng),保溫材料為加厚型,殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料,加熱元件為優(yōu)質硅碳棒。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現(xiàn)連續(xù)生長不間斷的特點。

碳納米膜制備設備

二、性能參數(shù)                                                                                                                                                                

型號

LFT1400C 800D802Z

額定功率

18KW

額定電壓

AC380V

最高溫度

1400℃

額定溫度

1300℃

推薦升溫速率

1400℃以下≤10℃/min

爐管尺寸

(可根據(jù)客戶要求訂制)

剛玉管Φ8 1400mm

外型尺寸(長×深×高)

1680*700*2560mm

控溫精度

±1℃

極限真空度(選件)

1.0×10-3Pa(機械泵+分子泵)

加熱元件

硅碳棒

重量

230KG

客戶自配裝空氣開關

40A




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