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剝離成形電子束設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:31:53
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 647

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北京瑞科中儀科技有限公司專(zhuān)注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì),專(zhuān)精的服務(wù),提供理想的解決方案。

我們長(zhǎng)期專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷(xiāo)和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專(zhuān)業(yè)的分析解決方案。以專(zhuān)業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來(lái)解決用戶(hù)在科研中遇到的難題。專(zhuān)業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷(xiāo)售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶(hù)至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來(lái)!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

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剝離成形電子束設(shè)備介紹:

對(duì)於有些金屬,我們很難使用蝕刻(Etching)方式來(lái)完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時(shí),就可以?huà)?cǎi)用 Lift-Off製程來(lái)做出想要的金屬圖案。在此過(guò)程中,電子束蒸發(fā)於在基板表面上沉積所需的薄膜層於犧牲層與基材上,最終在洗去其犧牲層,以得到其電路圖案。由於SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度,因此薄膜厚度和均勻度皆小於+/- 3%。

? 針對(duì)Lift-Off製程設(shè)計(jì)載臺(tái)水冷或液態(tài)氮冷卻。

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1.準(zhǔn)備基板。
2.犧牲薄膜層的沉積。
3.對(duì)犧牲層進(jìn)行圖案化(例如蝕刻),以形成反向圖案。
4.沉積目標(biāo)材料。
5.洗去犧牲層以及目標(biāo)材料的表面。
6.最終圖案層:
①基材
②犧牲層
③目標(biāo)材料

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剝離成形電子束設(shè)備參數(shù):

應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • Lift-Off製程。


  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

    和其應(yīng)用。

  • 腔體最高可至650 mm。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優(yōu)點(diǎn)選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達(dá)

    12寸晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 水冷坩堝的多組坩鍋旋轉(zhuǎn)電子束源(1/2/4/6坩堝)。

  • 自動(dòng)鍍膜系統(tǒng)。

  • 具有順序操作或共沉積的多個(gè)電子束源。

  • 基板具有冷卻(液態(tài)氮溫度低至-70°C)功能。

  • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套

    箱整合在一起。






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