MKS ASTRON2L RPS 半導體遠程等離子源是經過長期驗證的具有優(yōu)良性能和高可靠性的高性能遠程等離子體源，是沉積和蝕刻室清潔工藝的關鍵子組件，消除了工藝副產物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命，并減少薄膜污染的來源。ASTRON Series RPS 廣泛應用在半導體各制程的清潔環(huán)節(jié)中，可以以各種不同的配置安裝在硅晶圓或大面積基板工藝室上。ASTRON Series RPS效果良好且更加經濟可靠，為CVD室清潔，FPD（平板顯示器）提供所需的反應氣體室清潔，太陽能室清潔，光刻膠堆灰，氧化，氮化和化學消減。

MKS ASTRON2L RPS 半導體遠程等離子源技術參數

設備型號：Astron AX7657-85，P/N 0190-41326W

AC輸入： 208V ~，3 phase ~，50/60Hz，30A

散熱方式：水冷散熱

水冷水壓：100 PSIG（Max.）

通信接口：RS-232 / Cust I/O