ME-Mapping光譜橢偏儀
參考價 | ¥600000-¥1000000/臺 |
- 公司名稱 武漢頤光科技有限公司
- 品牌頤光科技
- 型號
- 所在地武漢市
- 廠商性質生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/2/8 9:57:34
- 訪問次數(shù) 2314
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
一、概述
ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,配置全自動Mapping測量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。
■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案;
■ 支持產(chǎn)品設計以及功能模塊定制化,一鍵繪制測量;
■ 配置Mapping模塊,全基片自定義多點定位測量能力;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫,保證強大數(shù)據(jù)分析能力。
二、產(chǎn)品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);
■ 高精度旋轉補償器調(diào)制、PCRSA配置,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;
■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力,提供全面膜厚檢測分析報告;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產(chǎn)品應用
ME-Mapping廣泛應用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
可選配件
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真空泵 | 透射吸附組件 |
技術參數(shù)