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PECVD

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產(chǎn)品標(biāo)簽

PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備

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 合肥康帕因設(shè)備技術(shù)有限公司是應(yīng)材料界老客戶呼吁而成立的專業(yè)致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)型企業(yè)。公司擁有過硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì),可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領(lǐng)域?yàn)槟艖n解難。
CPI 技術(shù)力量來源于材料類工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備要求,以及與國外同行業(yè)間的技術(shù)合作,產(chǎn)品設(shè)計(jì)*,注重細(xì)節(jié),質(zhì)量可靠,售后無憂。CPI設(shè)備廣泛應(yīng)用于新能源材料,金屬材料,磁性材料,半導(dǎo)體材料,陶瓷材料,電化學(xué),薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳納米管,碳納米線,光學(xué)材料,齒科等研究領(lǐng)域。
CPI將工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)要求應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)設(shè)備,設(shè)備性能更加穩(wěn)定可靠,工藝重復(fù)性強(qiáng)。
CPI的理念是以客戶為根本(customer),以人才為基礎(chǔ)(personnel),以創(chuàng)新求發(fā)展(innovation)。我們將秉承這一理念,為每一個(gè)客戶提供全套方案!
CPI企業(yè)文化:厚德載物,自強(qiáng)不息。以人為本,敬職敬業(yè)。
CPI經(jīng)營理念:誠信務(wù)實(shí),創(chuàng)新致遠(yuǎn)。品質(zhì)*,服務(wù)至上。




熱處理設(shè)備,高溫爐、CVD/PECVD、真空系統(tǒng)、晶體、耗材等

  PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。
 
  工作溫度:5~45?C
 
  zui大壓力:3x106 Pa
 
  精度: ±1.5% FS
 
  線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
  重復(fù)精度: ±0.2%F.S.
 
  流量范圍:
 
  一路:1~199 SCCM
 
  二路:1~499 SCCM
 
  PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費(fèi)用
 
  化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實(shí)現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)

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