LK2006A型 LK2006A型 電化學(xué)工作站
- 公司名稱 湖南精密科學(xué)儀器設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號 LK2006A型
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2018/5/14 9:00:00
- 訪問次數(shù) 664
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實驗室分析檢測儀器、環(huán)境水質(zhì)監(jiān)測儀器、食品檢驗儀器、食品QS認(rèn)證儀器、電化學(xué)儀器、激光粒度分析儀、工控設(shè)備等儀器設(shè)備
LK2006A 電化學(xué)工作站為了滿足測量、使用超微電流的需要,儀器本身實驗部分自帶屏蔽,實驗與分析方法齊全,達(dá)到51種方法,并且增加了自定義方法,滿足了不同使用的要求,目前幾乎所有涉及電化學(xué)領(lǐng)域的科學(xué)研究都可應(yīng)用。
一、性能特點
(1)中、英文的軟件操作界面
LK2006A電化學(xué)工作站采用中、英文的軟件操作界面,操作簡單直觀。實時觀察窗口、圖形數(shù)據(jù)一體化窗口的運用,使得測試過程直觀高效。軟件在運行中,對用戶的操作及數(shù)據(jù)的有效性、完整性進(jìn)行了充分地檢查,適時給出提示或警告。
(2) 數(shù)據(jù)實時顯示
LK2006A具有數(shù)據(jù)列表功能,能夠?qū)崟r顯示測量結(jié)果和打開文件的數(shù)據(jù),確保你方便地查看實驗結(jié)果。
(3) 強大的數(shù)據(jù)及圖形處理
LK2006A微機電化學(xué)測量系統(tǒng)上位機軟件可直接處理數(shù)據(jù)點,并能以十余種圖形方式顯示測量結(jié)果(如阻抗復(fù)平面圖/Nyquist、Bode圖、Warburg阻抗圖),觀察實驗結(jié)果十分方便。
二、工作環(huán)境
1)環(huán)境溫度:-15oC ~ 45oC
2)環(huán)境相對濕度:< 75%
3)儀器四周通風(fēng)良好,空氣中不含腐蝕性氣體。
4)儀器周圍無強電磁場干擾。
5)當(dāng)交流幅值<10mV時,電解池需要利用Faraday箱進(jìn)行屏蔽。
6)電源電壓:AC220V(50Hz)±10%。
三、可提供的電化學(xué)方法:(51種方法)
恒電位技術(shù):單電位階躍計時電流法、雙電位階躍計時電流法、計時電量法、電流—時間曲線、開路電位--時間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。
線性掃描技術(shù):線性掃描伏安(極譜)法、循環(huán)伏安法、塔菲爾曲線、采樣電流伏安(極譜)法、線性掃描溶出伏安法。
脈 沖 技 術(shù):常規(guī)脈沖伏安(極譜)法、差分脈沖伏安(極譜)法、差分常規(guī)脈沖伏安(極譜)法、差分脈沖溶出伏安法。
方波技術(shù): 方波伏安(極譜)法、循環(huán)方波伏安法、方波溶出伏安法。
交流技術(shù): 交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法
恒電流技術(shù):單電流階躍計時電位法、雙電流階躍計時電位法、線性電流計時電位法、控制電流電解庫侖法。
電化學(xué)檢測方法:電位分析-工作曲線法、電位分析-標(biāo)準(zhǔn)加入法、恒電位安培檢測、方波電位安培檢測。
交流阻抗測量技術(shù):交流-阻抗法、阻抗-電位法、阻抗-時間法。
自定義方法:恒電位方法、恒電流方法、波形發(fā)生器。
電池充放電測試。
流體動力學(xué)調(diào)制伏安法。
靜汞電極方法。
四、技術(shù)規(guī)格
1.恒電位/恒電流(電位分辨率)0.01mV、電流分辯率≤0.01pA、直接測量zui小電流:<8pA、
時間分辨率0.1ms
2.動態(tài)參數(shù)調(diào)整:
電勢控制范圍-12~+12V、恒電流范圍-250~+250mA、槽壓-28V~+28V、電流檢測下限≤1pAzui小電位增量0.01mV脈沖寬度0.0001~10Sec、方波頻率0.001~100kHz、交流頻率1~10kHz、二次諧波交流頻率1~1kHz、采樣間隔0.0001~60000s、平衡時間0~60000s、濾波參數(shù)50Hz~1000kHz、電勢信號掃描范圍13V、掃描速度0.01mV/S~5000V/s、脈沖間隔0.0001~60000s、脈沖振幅1~500mV、方波幅度1~500mV、交流幅度0.1~327mV、電解時間1~60000s、電沉積時間0~60000s、低噪聲程控放大1~64倍、正弦波頻率0.01mHz~100kHz電流靈敏度范圍±100mA~±1nA(8個量程檔位)
3、電流電位自動或手動濾波,自動或手動IR降補償,自動電位或手動電流調(diào)零
4、主機自帶硬件交流阻抗體系,附帶交流阻抗軟件,及數(shù)據(jù)處理軟件件,可進(jìn)行測量及數(shù)據(jù)曲線的模擬該體系提供多個阻抗測量方法。
5、主機自帶屏蔽、攪拌裝置。
6、接口通訊方式:串行通訊
電化學(xué)工作站,LK2006A